什么叫磁控溅射工艺

苏州六九新材料申请一种CoFeTa磁控溅射靶材及其制备方法专利,工艺...金融界2024年10月17日消息,国家知识产权局信息显示,苏州六九新材料科技有限公司申请一项名为“一种CoFeTa磁控溅射靶材及其制备方法是什么。 进一步提高送电功率至≥40KW,并保持20-30min,使原料快速熔化,获得温度为1500-1570℃的合金液。本发明工艺简单,合金成份控制准确,杂质是什么。

道森股份:子公司洪田科技新产品真空磁控溅射蒸发复合镀膜机广泛...金融界3月28日消息,有投资者在互动平台向道森股份提问:你好,子公司洪田科技新产品真空磁控溅射蒸发复合镀膜机主要应用于哪方面?主要面向的客户群体是哪些?公司回答表示:公司子公司洪田科技是国内首家掌握并采用一步法全干法工艺路线设计、生产、制造真空镀膜设备的厂商,好了吧!

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胜利精密:磁控溅射技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上请问贵公司有原子级制造等新领域赛道布局吗?或者已经在应用该技术生产了。公司回答表示:公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材,将靶材以原子状态溅射沉积在工件表面,形成致密的镀膜层,是一种高精密的真空镀膜加工工艺。相关技术已应用在公司玻璃镀膜和复说完了。

眉山秦川申请电阻器工业物联网制造的磁控溅射控制方法及其相关设备...本发明公开了电阻器工业物联网制造的磁控溅射控制方法及其相关设备,通过实时的设备参数和产品参数确定当前磁控溅射设备的状态,从而使得后续的参数优化处于真实可靠的磁控溅射设备状态下;综合了设备参数、产品参数和工艺参数三方面的考虑,并通过分析三个参数之间的映射关说完了。

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...nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺专利,提高镀膜效果一种1510nm ‑ 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺包括步骤:S1,将基底的表面清洁;S2,为磁控溅射设备的工艺腔选择一对中频Nb2O5 靶、一对中频Si 靶、以及RF 离子源;S3,将基地固定于旋转台的下表面上,将工艺腔抽真空;S4,采用RF 离子源对基底清洗;S5,磁控溅射设备抓好了吧!

北京大学申请气体传感器专利,实现小尺寸、低功耗的同时,具有可批量...本发明公开了一种基于磁控溅射气敏薄膜的单悬梁式气体传感器及其制造方法,属于微电子机械系统和气体检测技术领域。本发明提出将磁控溅射工艺制备的气敏薄膜与单悬梁式微热板集成,在实现小尺寸、低功耗的同时,与磁控溅射、图形化制备气敏薄膜的兼容性较好,具有可批量、可说完了。

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洪田股份:控股子公司为国内首家掌握并采用一步法全干法工艺路线厂商有投资者在互动平台向洪田股份提问:贵司发布的真空磁控溅射蒸发一体机在世界或是国内行业内是不是首台或是技术领先?目前贵司看真空磁控溅射蒸发一体机在行业内有无竞争对手?公司回答表示:公司控股子公司洪田科技是国内首家掌握并采用一步法全干法工艺路线设计、生产、制好了吧!

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安徽天宇磁业申请强磁性钕铁硼磁性材料及其制备工艺专利,增强材料...本发明公开了一种强磁性钕铁硼磁性材料及其制备工艺,属于金属功能材料技术领域,通过添加硅和镁元素增加钕铁硼磁性材料的高温抗氧化性和耐腐蚀性能,并将磁控溅射和电沉积相结合制备致密的Al‑Mn合金镀层,得到耐腐蚀性优异的强磁性钕铁硼磁性材料。利用Si元素替换,减少富B说完了。

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洪田股份:11月26日召开业绩说明会,投资者参与工艺路线设计、生产、制造真空镀膜设备的厂商,拥有完整的超精密真空镀膜设备产品矩阵,包含真空磁控溅射镀膜机(可双面镀金属材料)、真空还有呢? 公司未来有没有什么思路?预计成熟量产后设备单价能够下降多少?答:您好,感谢您的关注!公司通过继续加强与国内厂商的合作推动进口替代,以还有呢?

常州中英科技申请透明天线及其加工工艺专利,兼具光透明性与辐射...所述透明介质的外表面通过射频磁控溅射、化学电镀、透明胶膜压合覆合或热压合方式覆合一层金属铜层,其厚度在1‑15um 范围内,一种透明天线的加工工艺,具体步骤如下:步骤一,采用射频磁控溅射技术将金属铜层电镀到透明介质上或将超薄铜箔直接复合到透明基材上;本发明中由于后面会介绍。

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