什么东西能除去胶_什么东西能除去胶水
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武汉市三选科技取得消除渗胶的底部填充胶相关专利金融界2024年11月12日消息，国家知识产权局信息显示，武汉市三选科技有限公司取得一项名为“消除渗胶的底部填充胶、其制备方法和2.5D芯片封装结构”的专利，授权公告号CN 118620563 B,申请日期为2024年8月。
航科院(北京)取得用于机场跑道积胶清除的清洁车专利,能够实现跑道积...金融界2024年11月26日消息，国家知识产权局信息显示，航科院(北京)科技发展有限公司取得一项名为“一种用于机场跑道积胶清除的清洁车”的专利，授权公告号CN 222043820 U,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于机场跑道积胶清除的清洁车，包括机场跑说完了。
瑞力杰取得采用复合喷嘴去除履带残胶的装置及方法专利金融界2024年11月26日消息，国家知识产权局信息显示，瑞力杰(北京)智能科技有限公司取得一项名为“一种采用复合喷嘴去除履带残胶的装置及方法”的专利，授权公告号CN 115106942 B,申请日期为2022年6月。
江苏盐芯微电子申请集成电路封装溢胶清除专利,采用负压吸附方式...金融界2024年9月25日消息，国家知识产权局信息显示，江苏盐芯微电子有限公司申请一项名为“一种集成电路封装溢胶清除设备及方法”的专利，公开号CN 118681865 A,申请日期为2024年6月。专利摘要显示，本发明提供一种集成电路封装溢胶清除设备及方法，涉及集成电路封装技术领后面会介绍。
河南一驰发半导体取得半导体元器件残胶清除辅助装置专利,节省工作...金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，河南一驰发半导体有限公司取得一项名为“半导体元器件残胶清除辅助装置”的专利，授权公告号CN 222071882 U,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本实用新型公开了半导体元器件残胶清除辅助装置，包括外壳体，所述外壳体的等我继续说。
国林科技:公司电子级超纯臭氧气体发生器可被广泛用于光刻胶去除和...南方财经5月30日电，有投资者问，请问公司在光刻胶和光刻机方面有哪些技术和产品？国林科技在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应说完了。
...治具专利,能有效防止石英腔体与光刻胶去除设备的腔体的内壁发生碰撞治具将待安装的石英腔体安装在光刻胶去除设备的腔体中；治具包括下盖、连接机构、上盖和握把；下盖和连接机构的一端可拆卸式连接；上盖和连接机构的另一端可拆卸式连接；握把设置在上盖远离连接机构的一侧；石英腔体固定在下盖和上盖之间，石英腔体的下端和下盖相配合，石英腔体的是什么。
扬州虹扬科技发展有限公司取得去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置...金融界2024年11月19日消息，国家知识产权局信息显示，扬州虹扬科技发展有限公司取得一项名为“一种去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置”的专利，授权公告号CN 222015350 U,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本实用新型公开一种去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置，涉小发猫。
埃蒙迪取得托槽固定件和正畸定位器相关专利,便于清除溢胶托槽固定件的内侧设置有溢胶槽，以供多余的胶水通过溢胶槽流至托槽固定件的侧壁面。通过在托槽固定件内设置溢胶槽，使得正畸托槽与牙齿之间溢出的多余胶水能够通过溢胶槽顺利地排到托槽固定件的侧壁面，便于医生将其清除。在本申请实施例提供的正畸定位器包括上述的托槽固定等我继续说。
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杭州富芯半导体取得光刻胶喷嘴结晶清除装置专利,可对光刻胶喷嘴...金融界2024年9月25日消息，国家知识产权局信息显示，杭州富芯半导体有限公司取得一项名为“光刻胶喷嘴结晶清除装置”的专利，授权公告号CN 221753727 U,申请日期为2023 年12 月。专利摘要显示，本申请提供一种光刻胶喷嘴结晶清除装置，其包括移动机构、清洗槽、清洗剂喷洒模是什么。
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